- pulsed laser evaporation
- импульсное лазерное напыление или распыление
English-Russian dictionary of mechanical engineering and automation. - RUSSO. B.S. Voskoboinikov, V.L. Mitrovich. 2003.
English-Russian dictionary of mechanical engineering and automation. - RUSSO. B.S. Voskoboinikov, V.L. Mitrovich. 2003.
Pulsed laser deposition — (PLD) is a thin film deposition (specifically a physical vapor deposition, PVD) technique where a high power pulsed laser beam is focused inside a vacuum chamber to strike a target of the desired composition. Material is then vaporized from the… … Wikipedia
Laser — For other uses, see Laser (disambiguation). United States Air Force laser experiment … Wikipedia
Atom laser — An atom laser is a coherent state of propagating atoms. They are created out of a Bose–Einstein condensate of atoms that are output coupled using various techniques. Much like an optical laser, an atom laser is a coherent beam that behaves like a … Wikipedia
LIDAR — A FASOR used at the Starfire Optical Range for LIDAR and laser guide star experiments is tuned to the sodium D2a line and used to excite sodium atoms in the upper atmosphere … Wikipedia
PVD-Verfahren — Der Begriff physikalische Gasphasenabscheidung (englisch physical vapour deposition, kurz PVD) bezeichnet eine Gruppe von vakuumbasierten Beschichtungsverfahren bzw. Dünnschichttechnologien, bei denen im Gegensatz zu CVD Verfahren die Schicht… … Deutsch Wikipedia
Physical vapor deposition — Der Begriff physikalische Gasphasenabscheidung (englisch physical vapour deposition, kurz PVD) bezeichnet eine Gruppe von vakuumbasierten Beschichtungsverfahren bzw. Dünnschichttechnologien, bei denen im Gegensatz zu CVD Verfahren die Schicht… … Deutsch Wikipedia
Physical vapour deposition — Der Begriff physikalische Gasphasenabscheidung (englisch physical vapour deposition, kurz PVD) bezeichnet eine Gruppe von vakuumbasierten Beschichtungsverfahren bzw. Dünnschichttechnologien, bei denen im Gegensatz zu CVD Verfahren die Schicht… … Deutsch Wikipedia
Physikalische Gasphasenabscheidung — Der Begriff physikalische Gasphasenabscheidung (englisch physical vapour deposition, kurz PVD) bezeichnet eine Gruppe von vakuumbasierten Beschichtungsverfahren bzw. Dünnschichttechnologien. Anders als bei Verfahren der chemischen… … Deutsch Wikipedia
Thin-film deposition — is any technique for depositing a thin film of material onto a substrate or onto previously deposited layers. Thin is a relative term, but most deposition techniques allow layer thickness to be controlled within a few tens of nanometers, and some … Wikipedia
Thin film — A thin film is a layer of material ranging from fractions of a nanometer (monolayer) to several micrometers in thickness. Electronic semiconductor devices and optical coatings are the main applications benefiting from thin film construction. A… … Wikipedia
PVD-процесс — Молекулярный уровень процесса PVD модель Напыление конденсацией из паровой (газовой) фазы (англ. physical vapour deposition; сокращённо PVD) обозначает группу методов напыления покрытий (тонких плёнок) … Википедия